Создан чип с полупроводниками атомной толщины

Поскольку кремниевые чипы приближаются к пределам своего физического масштаба, ученые разрабатывают сверхтонкие конструкции для повышения вычислительной производительности.

В Китае построили микропроцессор с полупроводниками толщиной всего в несколько атомных слоев, передает Синьхуа.

В новинке, описанной в Nature, использован почти двумерный полупроводниковый материал — одномолекулярные листы дисульфида молибдена. «Почти» — потому что листы соединены под углом и образуют слегка зигзагообразную поверхность.

Результатом стал вполне работоспособный (проверили, сложив с его помощью два числа) 32-битный микропроцессор с архитектурой RISC-V. По словам Чжоу Пэна из Фуданьского университета, он содержит 5900 транзисторов, работающих в 25 типах логических блоков (весь необходимый набор), может выполнять операции сложения и вычитания данных объемом до 4,2 миллиарда точек и позволяет программировать до 1 миллиарда инструкций.

При изготовлении широко применялись достижения кремниевого чипостроения, при этом ИИ помог обеспечить точный контроль над процессами от выращивания материалов до интеграции.

До серийного выпуска разработки пока далеко, но, по мнению создателей, она непременно найдет свою нишу в микроэлектронике — особенно в случае питания сверхнизким напряжением.

Как делают чипы и где их предел в нанометрах

Microsoft представила первый квантовый чип на основе «топологических кубитов»