В НИУ "МЭИ" создали новый источник излучения в экстремальном ультрафиолете

МОСКВА, 29 ноября. /ТАСС/. Ученые Национального исследовательского университета "МЭИ" (НИУ "МЭИ") создали новый источник излучения в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне длин волн (ЭУФ) с помощью добавления лития в гелиевый плазменный заряд. Разработка позволит усовершенствовать технологию литографии микросхем, уменьшить их размеры и увеличить быстродействие, говорится в сообщении "МЭИ".