Китай планирует построить гигантский завод по производству микросхем, работающий на ускорителе частиц

<p>Проект ведется ведущим ВУЗом Китая – университетом Цинхуа. Ученые уже выбирают место для строительства ускорителя в районе города Сюнъань в провинции Хэбэй. Фабрика будет построена по принципиально отличающейся от иностранных аналогов схеме: в качестве источника излучения будет использоваться ускоритель заряженных частиц. Длина его контура составит около 100-150 метров. </p><p>Такая фабрика сможет производить большие объемы чипов с низкой себестоимостью. Проект разрабатывается с 2017 года. Одним из его применений может стать фотолитография в глубоком ультрафиолете (extreme ultraviolet lithography, EUV), эта технология используется во всем мире для создания передовых чипов. Единственным производителем таких литографических машин является нидерландская компания ASML, однако доступ Китая к этой технологии ограничен. </p><p>Технология построена на методе так называемого устойчивого микрогруппирования (steady-state microbunching, SSMB), которая была впервые представлена профессором Чжао У и его учеником Дэниэлом Рэтнером в 2010 году. Она предусматривает использование энергии заряженных частиц в качестве источника излучения с узким рассеянием. Длина волны такого излучения может составлять от 13,5 нм до 0,3 мм. </p><p>«Предстоит еще многое сделать, прежде чем мы получим свои собственные, независимые литографические машины EUV, однако источники глубокого ультрафиолетового излучения на основе технологии SSMB дадут нам альтернативу находящейся под санкциями технологии», – говорится в докладе профессора Тан Чуаньсяна, главы проектной группы в университете Цинхуа. </p>